近日，外企分公司成功中标西安三星半导体新建项目共同沟/冷却塔管道安装工程。项目合同金额3380万元，预计2013年8 月30日竣工交付。

该工程位于西安市长安区。共同沟部分包含FAB/WWT UT/CUB/EDS 等建筑各类管道安装工程，直径DN500以内管道数量约9000M；冷却塔大口径管道DN1500-DN1000以内700M，DN700以下1100M，管廊制作安装等。

该项目一期投资为70亿美元，项目业主为三星（中国）半导体有限公司，这是三星电子海外投资历史上规模最大的项目，也是韩国三星电子继1996年进入美国奥斯汀之后第二次在海外建立半导体生产工厂。

西安三星（中国）半导体项目作为国家、陕西省以及西安市的重点工程，受到国家发改委、陕西省及西安市政府的高度重视。本工程建成后将是世界最先进技术的10纳米级 NAND Flash(闪存)生产线，作为在国内外备受瞩目的工程，即将成为改革开放后在中国电子信息领域引进的最大外商投资项目。